誠南工業株式会社は真空装置の設計製作を行っております。

・本蒸着装置はEB蒸着室、K-CELL蒸着室、ロードロック室、グローブボックス等により
　構成され、各室間基板が自由に受渡しでき、大気に曝されずに有機膜、金属膜、デバイスの
　作製が可能になります。
・また、各室に多数のオプションの取り付け、研究内容によって構成変更等の対応も
　致します。

◆EB蒸着用
　・成膜室
　・基板加熱機構
　・真空計
　・EB電子銃/制御電源
　・膜厚計
　・排気系

◆有機膜用
　・成膜室
　・基板冷却機構
　・通電加熱型蒸着源
　・真空計
　・膜厚計
　・排気系

◆ロードロック室
　・基板受渡し機構
　・排気系

◆グローブボックス

成膜室
　　　 　　　　　到達真空度：5×10^-6Pa以下
　　　　　　　　　EB蒸着源：2kw3連電子銃、制御電源
　　　　 　　　　　基板加熱：600℃以上
　　　　　　 　　　　膜厚計：膜厚制御可能型or表示のみ　膜厚モニタ付
　 　　　　　　　　　排気系：TMP 800L/s＋R.P 500L/m＋排気配管部品

有機蒸着室
　　　　　 　　　到達真空度：5×10^-6Pa以下
　　　　　　　　　　K-CELL：6源
　　　　 　　　基板ホルダー：冷却式
　　　　　　 　　　　膜厚計：膜厚制御可能型or表示のみ　膜厚モニタ付
　 　　　　　　　　　排気系：TMP 500L/s＋R.P 300L/m＋排気配管部品

ロードロック室
　　　　　　　 　到達真空度：1×10^-4Pa以下
　　　　　 　基板受渡し機構：有
　　　　 　 　 　　　排気系：TMP 70L/s＋R.P＋排気配管部品

グローブボックス
　　　　　　　　　グローブ：1双
　　　　　　　　　酸素濃度：1ppm以下
　　　　　　　　　　水分値：-76℃(1ppm)以下
　　　　　　　基板搬送機構：有